上?？茖С暡ㄇ逑雌鱏K1200H：超聲波清洗是利用超聲波在液體中的空化作用來完成的。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生的電信號，通過換能器傳入清洗液中，會連續(xù)不斷地迅速形成和迅速閉合無數(shù)的微小汽泡，這種過程所產(chǎn)生的強大機械力，不斷沖擊物件表面，加之超聲波在液體中有加速溶解和乳化作用，使物體表面及縫隙中的污垢迅速剝落，從而達到清洗目的。超聲波清洗器已被廣泛地用于金屬、電鍍、塑膠、電子、機械、汽車等各工業(yè)部門以及醫(yī)藥、大專院校和各實驗室等。超聲空化效應與超聲波的聲強、聲壓、頻率，清洗液的表面張力、蒸氣壓、粘度以及被洗工件的聲學特征有關，聲強愈高，空化愈強烈，有利于清洗；空化閾值和頻率有密切關系，目前超聲波清洗器的工作頻率根據(jù)清洗對象，大致分為三個頻段：低頻超聲清洗（20～49kHz)，高頻超聲清洗(50～200kHz)和兆赫超聲清洗（700kHz～1MHz 以上)。低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結合強度高的場合。頻率的低端，空化強度高，易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪聲大。50～60kHz 左右的頻率，穿透力較強，宜清洗表面形狀復雜或有盲孔的工件，空化噪聲較小，但空化強度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結合力較弱的場合。高頻超聲清洗適用于計算機、微電子元件的精細清洗，如磁盤、驅(qū)動器、讀寫頭、液晶玻璃及平面顯示器，微組件和拋光金屬件等的清洗。這些清洗對象要求在清洗過1程中不能受到空化腐蝕，并能洗掉微米級的污物。兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及薄膜等的清洗。能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。因為此時不產(chǎn)生空化，其清洗機理主要是聲壓梯度、粒子速度和聲流的作用。 清洗劑的選擇一要從污物的性質(zhì)，另要有利于超聲清洗兩個方面來考慮。 清洗液的靜壓力大時，不容易產(chǎn)生空化，所以在密閉加壓容器中進行超聲清洗或處理時效果較差。清洗液的流動速度對超聲清洗效果也有很大影響。最好是在清洗過程中液體靜止不流動，這時汽泡的生長和閉合運動能夠充分完成。如果清洗液的流速過快，則有些空化核會被流動的液體帶走；有些空化核則在沒有達到生長閉合整個運動過程時就離開聲場，因而使總的空化強度降低。在實際清洗過程中有時為避免污物重新粘附在清洗件上，清洗液需要不斷流動更新，此時應注意清洗液的流動速度不能過快，以免降低清洗效果。被清洗件的聲學特性和在清洗槽中的排列對清洗效果也有較大的影響。吸聲大的清洗件，如橡膠、布料等清洗效果差，而對聲反射強的清洗件，如金屬件、玻璃制品的清洗效果好。清洗件面積小的一面應朝聲源排放，排列要有一定的間距。清洗件不能直接放在清洗槽底部，尤其是較重的清洗件，以免影響槽底板的振動，也避免清洗件擦傷底板而加速空化腐蝕。清洗件最好是懸掛在槽中，或用金屬籮筐盛好懸掛，但須注意要用金屬絲做成，并盡可能用細絲做成空格較大的筐，以減少聲的吸收和屏蔽。 清洗液中氣體的含量對超聲波清洗效果也有影響。在清洗液中如果有殘存氣體(非空化核)會增加聲傳播損失，在開機時先進行低于空化閾值的功率水平作振動，減少清洗液中的殘存氣體。要得到良好的清洗效果，必須選擇適當?shù)穆晫W參數(shù)和清洗液。